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鍺片(Ge)


鍺性質(zhì)
具有半導(dǎo)體性質(zhì)。對固體物理和固體電子學(xué)的發(fā)展超過重要作用。鍺的熔密度5.32克/厘米3,鍺可能性劃歸稀散金屬,鍺化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,常溫下不與空氣或水蒸汽作用,但在600~700℃時,很快生成二氧化鍺。與鹽酸、稀硫酸不起作用。濃硫酸在加熱時,鍺會緩慢溶解。在硝酸、王水中,鍺易溶解。堿溶液與鍺的作用很弱,但熔融的堿在空氣中,能使鍺迅速溶解。鍺與碳不起作用,所以在石墨坩堝中熔化,不會被碳所污染。鍺有著良好的半導(dǎo)體性質(zhì),如電子遷移率、空穴遷移率等等。鍺的發(fā)展仍具有很大的潛力?,F(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)的鍺,主要來自銅、鉛、鋅冶煉的副產(chǎn)品

化學(xué)式  Ge 
分子量  72.61 
純度 6N 
外觀 錠狀多晶、單晶 
用途 鍺被廣泛應(yīng)用于電子工業(yè)、紅外光學(xué)器件、光纖、醫(yī)學(xué)、冶金、能源、太陽能電池等方面。 

 
Ge Wafer Specification
Type/Dopant 導(dǎo)電類型/摻雜元素 N-Type/Si P-Type/Zn
Dopant/摻雜元素 As, Sb Ga
Growth Method 長晶方式 CZ
Diameter 直徑 2", 3", 4", 6"
Orientation 晶向 (100)±0.5°
Thickness 厚度 (µm) 175-500um±25um
OF/IF 參考邊 US EJ
Resistivity 電阻率 (ohm-cm) 0.005-30 0.005-0.4
Etch Pitch Density 位錯密度(/cm2) <300 <300
TTV 平整度 [P/P] (µm) <15
TTV 平整度 [P/E] (µm) <25
Warp 翹曲度 (µm) <25
Surface Finished 表面加工 P/P, P/E, E/E

 
Sub 1: PlutoChip Co., Ltd    -Discrete Devices and Integrated Circuits-    www.plutochip.com
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